在半导体、面板和光伏等高科技产业中，高纯气体的精确监控一直是行业的技术瓶颈。从刻蚀、离子注入到薄膜沉积，这些工艺环节都离不开超纯、高腐蚀性甚至剧毒的特种气体。这些气体的供应与精度控制，直接影响产品的良率、生产的安全性以及整体的产能效率。然而，传统的压力传感器往往难以胜任这些严苛的要求。那么，如何确保高纯气体在输送和使用过程中的绝对纯净和精确控制呢？Setra 的超高纯（UHP）压力传感器系列或许是您的理想选择。

 

传统传感器的局限性

 

在半导体、面板和光伏制造中，高纯气体的监控面临着诸多挑战：

 

材料污染

 

传统的压力传感器接液部件多为普通316或304不锈钢，表面粗糙度较高（通常＞10 RA），无特殊钝化处理。可能释放杂质，影响气体纯度。在半导体制造中，任何微小的污染都可能导致晶圆良率大幅下降。

 

耐腐蚀性不足

 

高腐蚀性气体（如HF、ClF₃）会迅速侵蚀普通材料，导致传感器失效甚至泄漏风险。这不仅影响生产效率，还可能引发严重的安全问题。

 

抗干扰能力弱

 

在复杂的电磁环境中，传统传感器容易受到干扰，导致测量不准确，甚至引发误报警或控制失效。

 

泄漏率

 

传统的压力传感器仅通过简单气密性测试，泄漏率通常在1×10⁻⁶ atm·cc/sec以上，无法满足超高纯系统的密封要求。

 

维护成本高

 

传统的压力传感器的长期稳定性差，需要频繁校准和更换，增加了运营成本。

 

Setra 超高纯UHP压力传感器

 

Setra Model 225 超高纯（UHP）压力传感器专为半导体工艺中的超高纯气体输送系统和控制应用设计，能够满足超洁净操作、高性能和长期稳定性的严格要求。

 

 

01超小腔室设计

 

Model 225 采用仅 0.11 in³ 的小腔室设计，几乎消除了颗粒滞留的可能性，便于快速吹扫，确保气体纯度。

 

02超高纯材料

 

采用干式电容技术，所有接触测量介质的部件均采用316L VIM/VAR不锈钢制造，并经过电解抛光至 5Ra（最大7Ra），避免污染物吸附或释放，提供卓越的耐腐蚀性能，保障气体输送的纯净性。

 

03严格泄漏测试

 

每个传感器均经过质谱仪氦气泄漏测试，泄漏率小于1×10⁻⁹ ATMCC/sec，确保在高纯气体应用中的密封性和可靠性。

 

04灵活的安装与调整

 

Model 225配备可旋转外罩，方便用户通过多圈电位器对零点或者满程进行微调，满足不同安装需求。

 

05多种压力接口选项

 

Model 225提供标准的旋转外螺纹/内螺纹端面密封压力接口，满足半导体行业的严格要求。同时提供多种其他接口选项，以适应不同的应用场景。

 

06多种输出选项

 

提供0-5VDC、0-10VDC或4-20mA多种输出信号，能够与各种控制系统无缝对接。同时提供M12或4针卡口等多种电气接头选项。

 

07高精度测量

 

采用Setra独特的可变电容技术，当气体压力升高时，316L不锈钢膜片产生形变，电容值增大。传感器检测到电容变化后，将其转换为高精度的线性直流电信号。

 

08抗干扰能力

 

Setra的定制集成电路采用专利的电荷平衡原理，几乎不受电磁干扰（EMI/RFI）影响，确保在复杂工业环境中的稳定性和可靠性。

 

除了225系列以外，Model223、224和227系列超高纯压力传感器同样凭借Setra成熟的电容传感技术，提供几乎不受电磁干扰（EMI/RFI）影响的高精度、稳定的电压或电流输出信号。它们都经过严格的氦泄漏测试，确保在高纯气体应用中的密封性和可靠性。

 

Setra UHP超高纯压力传感器凭借其出色的性能和可靠的品质在半导体过程工艺、特气柜、IGS、高纯气体输送分配系统有着广泛的应用。

 

来源：Setra西特精密压力测量